旋转硅铝金靶 Rotatable SiAl Alloy target
产品用途:用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光学玻璃AR膜系,Low-E玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃。
产品参数:
密度: >2.2g/cm3(>94%)
纯度: > 99.9%
总杂质含量≤ 1000ppm
旋转硅铝金靶 SiAl Alloy target
详细信息 旋转硅铝金靶 Rotatable SiAl Alloy target 产品用途:用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光学玻璃AR膜系,Low-E玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃。 产品参数: 密度: >2.2g/cm3(>94%) 纯度: > 99.9% 总杂质含量≤ 1000ppm 相关产品 相关旋转产品
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